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2020/9/9 14:07

解決光刻機中國芯片能自救?專家康釗稱還有很多上游產業被美限制

運營商財經網  吳碧慧

近日,知名通信專家、運營商財經網總編輯康釗在百度平臺的直播首秀“康釗財經大講堂”中圍繞“華為芯片斷供會遭遇滅頂之災,中國芯片業能否自救”的話題,談道“中國芯片就算解決了光刻機的難題,但還有很多上游產業被美國限制。”這是何意?

我國光刻機發展史

據悉,芯片主要分為三大環節:芯片設計、芯片制造、芯片封裝,其中最為重要的要數“光刻機”,可以說光刻機就是在制造芯片時不可或缺的工具,沒有光刻機就沒有芯片。

但在過去,全球能夠生產高端光刻機的,被荷蘭的ASML所壟斷,而我國的光刻機起步晚,且由于《瓦森納協定》,美國能禁止荷蘭的光刻機出口中國,這就為我國生產研發芯片帶來了不小的困難。

但其實我國光刻機發展速度還是挺快的。最早顯示是在1965年開始研發自己的集成電路,但真正實現發展是2002年上海微電子裝備公司(SMEE)成立之后,在光刻機被國外“卡脖子”這么久之后,看到了一絲曙光。

目前國內技術最領先的光刻設備廠商——上海微電子裝備公司可以做到最精密的加工制程是90nm,和荷蘭ASML的7nm的工藝相比,差距還是很高,但也別小瞧這90nm制程能力,這已經足夠驅動基礎的國防和工業。哪怕是出現禁止進口光刻機這種極端的情況時,中國仍然有芯片可用。

仍有別的產業被美國限制

不過就算解決了光刻機問題還有別的產業被美國限制。據了解,芯片產業除了最為重要的光刻機外,還包含若干的產業鏈,而每一道產業鏈對于芯片最終的成品而言都至關重要。

據了解,光刻機、芯片的應用材料都掌握在日本、美國人手中。比如,光刻機有一種核心材料較光刻膠,幾乎被日本廠商壟斷,即便中國芯片產業鏈有企業生產出光刻機,但如果沒有光刻膠,也造不出來光刻機。

目前我國90到14nm高端芯片制造所需的ArF光刻膠完全依賴進口,并且,多國禁止ArF光刻膠技術對我國進行輸入。這顯然于我國芯片制造安全不利。

此外,存儲芯片、模擬芯片也均被美國所控制。在2019年之前中國在DRAM和NAND flash存儲芯片方面幾乎為零,2019年長江存儲投產NAND flash、合肥長鑫投產DRAM內存芯片。

而目前全球前十大模擬芯片企業均是歐美企業,中國模擬芯片企業生產的模擬芯片占國內模擬芯片市場的份額只有10%左右,而且均是低端的芯片。

總而言之,康釗稱“僅解決光刻機問題我國的芯片企業還是不能完成自救,其他的產業鏈也需加速發展,才能擺脫美國的制衡。”

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